SEM掃描電鏡的基本影響要素（二）

上一篇文章介紹了影響掃描電鏡的基本影響要素一：分辨率，下面臺式掃描電鏡的小編介紹其他3個影響要素。

1，放大倍數

SEM掃描電鏡的放大倍數可表示為M =Ac/As式中，Ac—熒光屏上圖像的邊長；As—電子束在樣品上的掃描振幅。一般地，Ac 是固定的(通常為100 mm)，則可通過改變As 來改變放大倍數。

目前，大多數掃描電鏡放大倍數為20～20,000倍，介于光學顯微鏡和透射電鏡之間，即SEM掃描電鏡彌補了光學顯微鏡和透射電鏡放大倍數的空擋。

2，景深

景深是指焦點前后的一個距離范圍，該范圍內所有物點所成的圖像符合分辨率要求，可以成清晰的圖像；也即，景深是可以被看清的距離范圍。

掃描電鏡的景深比透射電子顯微鏡大10倍，比光學顯微鏡大幾百倍。由于圖像景深大，所得掃描電子像富有立體感。

3，襯度

襯度包括：表面形貌襯度和原子序數襯度。

表面形貌襯度由試樣表面的不平整性引起。

原子序數襯度指掃描電子束入射試祥時產生的背散射電子、吸收電子、X射線，對微區內原子序數的差異相當敏感。原子序數越大，圖像越亮。二次電子受原子序數的影響較小。高分子中各組分之間的平均原子序數差別不大。所以只有—些特殊的高分子多相體系才能利用這種襯度成像。

上述內容就是臺式掃描電鏡的小編介紹的SEM掃描電鏡的基本影響要素二。更多關于掃描電鏡的其他問題歡迎咨詢小編。